返回

学霸的培养系面板

首页

第262章 接连被震撼到(5/7)


    “我之前就说了,在看东西这方面我还是比较快的。”

    徐昀闻言有些不好意思的补充了句。

    而这照样让大家心情复杂,已经不知道该如何形容这种感受。

    心想这哪里是单纯比较快,简直是太快了。

    约摸过去三四秒的时间,只听杨靖忍不住说道:“看来我们是远远低估了徐教授的天赋啊。”

    最终还是罗长辉出声化解这份尴尬氛围,重新把话题拉到正轨上。

    “好了。”

    “徐教授能展现出这种强大天赋,我们大家应该感到高兴才是。”

    “正是这样才有更多希望解决光刻机问题。”

    话音落下看到大家深以为意,他才扭头重新把目光放到徐昀身上抛出一个问题。

    “徐教授。”

    “不知道你打算先解决哪项问题?”

    说完不单单是罗长辉,在场其他人也都第一时间把目光集中到了徐昀身上静静等待答案。

    花费两天时间看完所里的光刻机项目资料后,徐昀知道国产极紫外光刻机主要面临的问题,主要分为光源和掩膜以及投影光学系统等。

    极紫外光刻机光源发出的极紫外光线,极其容易被物质吸收。

    光束经过多次反射后,只有不到2%的光线能使用。

    能量转化率极低。

    因此需要强大光源,来保证射线光源足够强。

    另外极紫外光波长为13.5nm,由于容易被镜头玻璃等材料吸收,还会被空气和气体吸引影响折射率变化。

    腔体需要采用真空系统。

    投影光学系统则必须使用反射镜代替透镜,这使得反射镜的精度要求很高,同时制造成本昂贵。

    掩膜方面因为极紫外光线的特殊性,普通掩膜版非常容易破坏,这就需要研发出特殊的掩膜版。

    可以说这几项问题每个单独拿出来,都需要研究所进行大量长时间的研究。

    并且还不见得一定会有成果。

    足可见制造整台极紫外高端光刻机的难度。

    也怪不得海外半导体领域有恃无恐,并不担心他们能够实现高端芯片制造产业链国产化。

    幸好高端光刻胶的问题已经解决,否则便相当于是又增加了难度。

    徐昀弄清楚这些的同时自然也有了方向,这时面对罗长辉的询问并未

关闭+畅/阅读=模式,看最新完整内容。本章未完,请点击下一页继续阅读》》